Verification of cell viability at progressively higher scanning forces using a hybrid atomic force and fluorescence microscope

Dry 40× and 60× microscope objectives were fitted with opaque black masks in order to eliminate reflection and scattering of light off the objective front lens assembly during oblique incidence reflection (OIR) microscopy. The reflection and scattering are shown to induce background glare that leads to degradation in the quality of the OIR images. Mask prototypes were designed and machined to snap onto the spring-loaded retractable front lens assembly of each objective. OIR images of live cells and normalized intensity line profiles are used to demonstrate that, if these alterations to the housing of the objective are implemented, background glare is significantly reduced with the 60× objective, and virtually eliminated with the 40× objective.     

镀铬对光刻胶全息光栅掩模槽形的影响

为了研究镀铬对光刻胶光栅掩模槽形的影响,分析了铬膜反射引起的沿垂直光刻胶表面的驻波效应。分析表明驻波效应的对比度为0.28,不能忽略。将镀铬基底与普通的玻璃基底的掩模槽形对比,发现明显的不同。槽形模拟表明这种不同是由于驻波效应引起的。驻波效应会使掩模形成阶梯结构,且阶梯高度差正好为驻波波节间距离。     

Plastic behaviour of perforated sheets under biaxial stress state

A yield criterion of sheets with a uniform triangular pattern of round holes under biaxial loading has been proposed in terms of apparent stresses. The yield criterion was confirmed by finite element analysis results in the whole range of ligament efficiency of the perforated sheet. In order to analyse stretching of a perforated sheet for dot-type shadow mask by the finite element method, a yield function which can incorporate the apparent yield stress and the apparent plastic contraction ratio has been obtained. The agreement between the measured and calculated results of stretch forming of the perforated sheet was satisfactory.     

PLC在清洗光盘MASK铝黏附层中的应用

针对光盘Mask上铝黏附层的清洗问题，以PLC为控制核心设计了一套自动清洗设备，以取代当前的手工操作，本文对光盘制作工作，超声波原理以及该清洗设备的系统组成，工作流程等作了详细介绍，试验结果表明，该设备能获得较好的清洗效果。     

扩展傅里叶衍射理论在相移掩模中的应用

针对现代光刻中,超大教值孔径的情况下,通过简单的傅里叶衍射理论模拟掩模的传递函数的方法不够精确,必须得考虑倾斜照明带来的阴影效应.因此本文针对交替式相移掩模,提出了一种考虑阴影效应的近似模型.重新定义了阴影比率的公式.该方法是傅里叶衍射理论的扩展,是一种依赖于入射角的函数.分别给出了交替式相移掩模空间域和空间频率域的传递函数的表达式.并对提出的近似模型的衍射效率以及干涉场光强分布进行了仿真.结果表明,衍射效率和干涉场的强度分布是随着入射角的改变而改变的,不同线宽的衍射效率也不同.并且衍射效率是关于零度入射角对称分布.     

两种封装的光纤光栅温度传感器的低温特性

介绍了光纤光栅(FBG,Fiber Bragg Gratings)温度传感器的两种封装形式。推导了两种FBG温度传感器的温度敏感因素并进行了实验验证。实验研究了两种FBG温度传感器在-70~0 ℃的中心波长低温变化特性,比较了相同条件下两种FBG温度传感器的实验结果。结果表明:细不锈钢管封装的FBG温度传感器的中心波长在-60 ℃时发生了突变,急剧下降;而镀金FBG温度传感器的中心波长在-70~0 ℃随温度线性变化,重复性较好并且几乎没有迟滞现象。两种传感器在线性变化区间的温度灵敏系数KT 分别为28.2 pm/ ℃和21.3 pm/ ℃,分别是裸光纤布拉格光栅的3倍和2.3倍,它们的线性拟合度都超过0.999。     

用于各向同性湿法刻蚀中的氮化硅掩膜

在硅的各向同性湿法刻蚀过程中,一般选用HNA溶液(即氢氟酸、硝酸和乙酸的混合溶液)作为刻蚀液,而氮化硅以其很好的耐刻蚀性而优先被选为顶层掩膜材料.在硅片上刻蚀不同的结构,通常需要选择不同的刻蚀液配比.而不同配比对于氮化硅掩膜的刻蚀速率也不一样.分别用PECVD和LPCVD两种方法在<111>型硅片上沉积了厚度为560和210 nm的氮化硅薄膜,研究和对比了它们在8种典型配比刻蚀液下的刻蚀速率,为合理制作所需要厚度的氮化硅掩膜提供有益参考.     

等离子体横向刻蚀硅的特性研究

研究了用SiO2 +Al作掩模 ,SF6 +O2 混合气体等离子体对Si的横向刻蚀 ,其结果表明 ,在SF6 +O2 等离子体气氛中 ,Al是很好的保护膜 ,可以在待悬浮器件下形成大的开孔。因此 ,预计用这种技术 ,可以在Si片上集成横向尺寸为数百微米 ,具有优良高频性能的MEMSRF/MW无源器件 ,如开关、传输线、电感和电容等。     

聚合物9×9阵列波导光栅复用器的工艺研究

首次采用铝掩模工艺制备出9×9硅基聚合物阵列波导光栅(AWG)复用器.结果表明,在AWG器件制作工艺上,铝掩模技术明显优于厚胶掩模技术.用这种技术制备的器件,其结构指标与理论设计相符合.     

X射线光刻掩模背面刻蚀过程中的形变仿真

开发了理论模型以验证有限元方法用于X射线光刻掩模刻蚀过程数值仿真的正确性。利用相同的有限元技术，对X射线光刻掩模的背面开窗、Si片刻蚀过程进行数值仿真。结果表明，图形区域的最大平面内形变(IPD)出现在上、下边缘处，最大非平面形变(OPD)出现在左、右边缘处。此外对Si片单载荷步刻蚀和多载荷步刻蚀的仿真进行比较，结果表明图形区域最终的形变量与Si片刻蚀的过程无关。